产品资讯
半导体设备
光学设备
量测/检测
科研设备
再造设备
自研设备
备品备件
服务项目
客户服务
代工服务
设计研发
测试服务
培训服务
租赁服务
应用资讯
半导体
光学
其他
合作品牌
公司
联系我们
EN
中文
English
产品资讯
半导体设备
光学设备
量测/检测
科研设备
再造设备
自研设备
备品备件
服务项目
客户服务
代工服务
设计研发
测试服务
培训服务
租赁服务
应用资讯
半导体
光学
其他
合作品牌
公司
联系我们
搜索
光刻机
涂胶显影
掩膜版
站内搜索
搜索
产品资讯
应用资讯
服务项目
ASML TWINSCAN XT 1460K翻新光刻机test
ASML TWINSCAN XT 1460K翻新光刻机
ASML TwinScan XT:1400F 翻新光刻机
TwinScan XT:1400F DUV光刻机,双工件台 ArF 光刻系统,专为 65 纳米分辨率的 200mm 和 300mm 晶圆设计.
ASML TwinScan XT:1700Fi 翻新光刻机
TwinScan XT:1700Fi DUV光刻机,双工件台ArF浸没式DUV光刻机,适用于300 毫米晶圆批量生产,支持50纳米及以下制程分辨率;
ASML TwinScan XT:1900Gi 翻新光刻机
TwinScan XT:1900Gi DUV 光刻机,双工件台ArF浸没式DUV光刻机,适用于300 毫米晶圆批量生产;
ASML TwinScan XT:1950Hi 翻新光刻机
TwinScan XT:1950Hi DUV光刻机,双工件台ArF浸没式DUV光刻机,适用于300 毫米晶圆批量生产;