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光刻机 涂胶显影 掩膜版
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ASML TwinScan XT:1400F 翻新光刻机
TwinScan XT:1400F DUV光刻机，双工件台 ArF 光刻系统，专为 65 纳米分辨率的 200mm 和 300mm 晶圆设计.
ASML TwinScan XT:1700Fi 翻新光刻机
TwinScan XT:1700Fi DUV光刻机，双工件台ArF浸没式DUV光刻机，适用于300 毫米晶圆批量生产，支持50纳米及以下制程分辨率；
ASML TwinScan XT:1900Gi 翻新光刻机
TwinScan XT:1900Gi DUV 光刻机，双工件台ArF浸没式DUV光刻机，适用于300 毫米晶圆批量生产；
ASML TwinScan XT:1950Hi 翻新光刻机
TwinScan XT:1950Hi DUV光刻机，双工件台ArF浸没式DUV光刻机，适用于300 毫米晶圆批量生产；
Nikon NSR-S208D 翻新KrF扫描式光刻机
NSR-S208D 翻新KrF扫描式光刻机，采用248nm波长的KrF准分子激光曝光光源，搭载双工件台，支持6"/8" 晶圆的高效、高精度量产。
Nikon NSR2205i12D 翻新步进式光刻机
NSR2205i12D 翻新 i-line 步进式光刻机，采用365nm波长的光源，搭载双工件台，支持6"/8" 晶圆的高效、高精度量产。
ABM SA系列 正/双面对准（TSV/BSV）光刻机
SA系列正/双面对准（TSV/BSV）光刻机，采用6"、8" 光源系统，适用衬底最大8"晶圆或方形片，对准精度±0.5um。
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