TwinScan XT:1950Hi DUV光刻机特点
双工件台ArF浸没式DUV光刻机，适用于300 毫米晶圆批量生产；
采用蔡司Starlith1950 浸没式物镜；
在NA=1.35时，可使水基ArF浸没式光刻技术推向物理极限；
● 波长：193nm；
● 数值孔径: ~1.35；
● 分辨率: 38nm；
● 关键尺寸均匀性(CDU): 1nm；
● 单机套刻精度: 4nm;
● 产能: 148片/小时(基于每片晶圆125次曝光)。
