TwinScan XT:1900Gi DUV光刻机特点
双工件台ArF浸没式DUV光刻机，适用于300 毫米晶圆批量生产；
采用蔡司Starlith1900i 浸没式物镜；
在NA=1.35时，可使水基ArF浸没式光刻技术推向物理极限；
结合ASML的Ultra-k系列产品组合（可提供业界最低可用k值），可实现40纳米及以下的半节距分辨率；
● 波长：193nm；
● 数值孔径: 0.85~1.35；
● 分辨率: 40nm；
● 关键尺寸均匀性(CDU): 2.5nm；
● 单机套刻精度: 6nm;
● 产能: 131片/小时(基于每片晶圆125次曝光)。
