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光掩膜版（光罩）
光掩模（也简称为掩模）是一种不透明的板，其上有一些透明区域，允许光线以规定的图案穿过。光掩模通常用于集成电路（IC或“芯片”）的光刻工艺，用于在薄晶圆（通常是硅）上刻画图案。在半导体制造中，掩模有时也称为光罩。
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2025.04.22
Potential of E-beam lithography for micro- and nano-optics f
Potential of E-beam lithography for micro- and nano-optics fabrication on large areas
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2025.03.18
