TwinScan XT:1700Fi DUV光刻机特点
双工件台ArF浸没式DUV光刻机，适用于300 毫米晶圆批量生产，支持50纳米及以下制程分辨率；
采用1.2数值孔径（NA）的在线折反射物镜；
搭载扩展版Ultra-k工艺套件，包含QUASAR XL离轴照明、LithoGuide ILIAS对准系统、DoseMapper剂量控制、掩模版形变校正（RSC）等；
● 波长：193nm；
● 数值孔径: 0.75~1.20；
● 分辨率: 45nm；
● 关键尺寸均匀性(CDU): 3nm；
● 单机套刻精度: 7nm;
● 产能: 122片/小时(基于每片晶圆125次曝光)。
