产品资讯
半导体设备
光学设备
量测/检测
科研设备
再造设备
自研设备
备品备件
服务项目
客户服务
代工服务
设计研发
测试服务
培训服务
租赁服务
应用资讯
半导体
光学
其他
合作品牌
公司
联系我们
EN
中文
English
产品资讯
半导体设备
光学设备
量测/检测
科研设备
再造设备
自研设备
备品备件
服务项目
客户服务
代工服务
设计研发
测试服务
培训服务
租赁服务
应用资讯
半导体
光学
其他
合作品牌
公司
联系我们
搜索
光刻机
涂胶显影
掩膜版
半导体设备
半导体设备简介
产品资讯
半导体设备
掩膜设备
掩膜设备
光刻设备
涂胶显影
刻蚀设备
沉积设备
清洗设备
划片设备
键合设备
其他设备
JEOL JBX-3200MVS 电子束光刻系统
JBX-3200MVS是基于加速电压50 kV的可变矩形电子束和步进重复式的光刻系统，具有先进的技术，实现了高速、高精度和高可靠性，可用于制作28nm～22/20nm节点的掩模版/中间掩模版（mask/reticle）的可变矩形电子束光刻。
Advantest E3650/E3640 光掩模电子束关键尺寸量测设备
MASK MVM-SEM E3650/E3640 支持亚10 nm节点和1Xnm节点光罩的多维观察和SEM测量。
Runsemi 掩膜版单片清洗系统
Runsemi 掩膜版单片清洗系统配备多种清洗工艺，适用于BIN、PSM、EUV Mask等高阶掩膜版清洗。该系统具有优异的异物去除性能和无图案损伤特性，可提高高阶制程中的光掩模成品率。
LAZIN LODAS-AI50/100/200 Photomask Blanks 缺陷检查装置
LODAS-AI50/100/200 应用于半导体Photomask原板、Blanks缺陷检查。
