产品资讯
半导体设备
光学设备
量测/检测
科研设备
再造设备
自研设备
备品备件
服务项目
客户服务
代工服务
设计研发
测试服务
培训服务
租赁服务
应用资讯
半导体
光学
其他
合作品牌
公司
联系我们
EN
中文
English
产品资讯
半导体设备
光学设备
量测/检测
科研设备
再造设备
自研设备
备品备件
服务项目
客户服务
代工服务
设计研发
测试服务
培训服务
租赁服务
应用资讯
半导体
光学
其他
合作品牌
公司
联系我们
搜索
光刻机
涂胶显影
掩膜版
半导体设备
半导体设备简介
产品资讯
半导体设备
沉积设备
掩膜设备
光刻设备
涂胶显影
刻蚀设备
沉积设备
清洗设备
划片设备
键合设备
其他设备
Tystar Tytan Mini 低压化学气相沉积系统
Tytan Mini 低压化学气相沉积系统专为扩散、氧化和低压化学气相沉积 (LPCVD) 应用而设计。
Tystar Tytan Standard 低压化学气相沉积系统
Tystar Tytan Standard 系统专为扩散、氧化和低压化学气相沉积 (LPCVD) 应用而设计。