Tystar Tytan Mini 低压化学气相沉积系统特点
专为扩散、氧化和低压化学气相沉积 (LPCVD) 应用而设计。
与同等容量的传统炉相比，系统所需的占地面积和电力消耗更小。
在半导体生产和研发领域广泛应用。
具有优秀的性能和工艺均匀性。
● 系统型号： 1600~4800 ；
● 适用晶圆: 4" ~ 8" ；
● 炉管数量: ≤ 4 ；
● 单炉管产能(ATM): 100 ；
● 单炉管产能(LPCVD): 50 ；
● 炉管长度: 18" ；
