Tystar Tytan Standard 低压化学气相沉积系统特点
专为扩散、氧化和低压化学气相沉积 (LPCVD) 应用而设计。
系统结构紧凑，适用于制造和研发环境。。
在半导体生产和研发领域广泛应用。
具有优秀的性能和工艺一致性。
● 系统型号： 2000~8300 ；
● 适用晶圆: 6" ~ 8" ；
● 炉管数量: ≤ 4 ；
● 单炉管产能(ATM): 200 ；
● 单炉管产能(LPCVD): 100 ；
● 炉管长度: 34" ；
