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ASML TwinScan XT:1400F 翻新光刻机
TwinScan XT:1400F DUV光刻机，双工件台 ArF 光刻系统，专为 65 纳米分辨率的 200mm 和 300mm 晶圆设计.
JEOL JBX-3200MVS 电子束光刻系统
JBX-3200MVS是基于加速电压50 kV的可变矩形电子束和步进重复式的光刻系统，具有先进的技术，实现了高速、高精度和高可靠性，可用于制作28nm～22/20nm节点的掩模版/中间掩模版（mask/reticle）的可变矩形电子束光刻。
Tystar Tytan Mini 低压化学气相沉积系统
Tytan Mini 低压化学气相沉积系统专为扩散、氧化和低压化学气相沉积 (LPCVD) 应用而设计。
IL600 单点金刚石车床test
IL600是一个四轴或可选的五轴超精密加工中心，可实现高生产率的光学产品加工，集成的 Nano Grip
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光掩膜版（光罩）
光掩模（也简称为掩模）是一种不透明的板，其上有一些透明区域，允许光线以规定的图案穿过。光掩模通常用于集成电路（IC或“芯片”）的光刻工艺，用于在薄晶圆（通常是硅）上刻画图案。在半导体制造中，掩模有时也称为光罩。
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2025.04.22
Potential of E-beam lithography for micro- and nano-optics f
Potential of E-beam lithography for micro- and nano-optics fabrication on large areas
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2025.03.18
电子束光刻在大面积微纳光学器件制造中的潜力
基于可变形状束（VSB）写入和字符投影（CP）的高分辨率、高通量光刻技术（如电子束光刻）的出现，为多种光学纳米结构的灵活应用开辟了道路。本文讨论了这些图案化方法的技术特点、优势与局限性，并展示了如何通过结合这些技术实现多样化的光学纳米结构，包括用于超短激光脉冲或高分辨率光谱仪的光栅、非球面测试的计算机生成全息图（CGH）、各类光学超构结构（透镜与光栅）以及紫外偏振器等。
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2025.04.17
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