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ASML TWINSCAN XT 1460K翻新光刻机test
ASML TWINSCAN XT 1460K翻新光刻机
可变成型电子束掩膜光刻设备test
一种可变成型多重电子束掩模光刻设备，支持45～14nm节点的掩模量产。
IL600 单点金刚石车床test
IL600是一个四轴或可选的五轴超精密加工中心，可实现高生产率的光学产品加工，集成的 Nano Grip
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Potential of E-beam lithography for micro- and nano-optics f
Potential of E-beam lithography for micro- and nano-optics fabrication on large areas
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2025.03.18
电子束光刻在大面积微纳光学器件制造中的潜力
基于可变形状束（VSB）写入和字符投影（CP）的高分辨率、高通量光刻技术（如电子束光刻）的出现，为多种光学纳米结构的灵活应用开辟了道路。本文讨论了这些图案化方法的技术特点、优势与局限性，并展示了如何通过结合这些技术实现多样化的光学纳米结构，包括用于超短激光脉冲或高分辨率光谱仪的光栅、非球面测试的计算机生成全息图（CGH）、各类光学超构结构（透镜与光栅）以及紫外偏振器等。
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2025.04.17
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