可变成型电子束掩膜光刻设备
一种可变成型多重电子束掩模光刻设备，支持45～14nm节点的掩模量产。
● 通过50kV的加速电压实现了对比度出色的光刻效果
● 通过载物台可变速移动和高电流密度(400A/cm2)实现了高吞吐量
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在广泛的技术节点领域实现了高COO（Cost of Ownership）
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